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至纯科技:半导体湿法设备首要聚集在芯片制作的前道工艺掩盖光刻、刻蚀、薄膜、离子注入等

来源:竞技宝官方测速    发布时间:2024-04-02 23:15:07

细节:

  每经AI快讯,有投入资金的人在出资者互动渠道发问:贵公司出产的一切相关的半导体设备中,是否有可以适用于先进封装的设备?假如有是哪种设备?用于哪种方式的先进封装?是否有订单?是否被追加订单?

  至纯科技(603690.SH)10月12日在出资者互动渠道表明,公司的半导体湿法设备首要聚集在芯片制作的前道工艺,掩盖光刻、刻蚀、薄膜、离子注入等要害工艺工序段。

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